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Asuka小讲座之四:CMOS性能与制程下

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Asuka 发表于 2012-3-30 22:49 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
点击数:20104|回复数:34
本帖最后由 Asuka 于 2012-3-31 00:16 编辑

    哟呵,又见面了大家,Asuka之前坑了很久的爹,今天差不多做个了结,绝对不能当富奸义博不是。今天是CMOS性能与制程的最后一集,终于要涉及到芯片性能的部分了,喵(-_-!)。之前写的很多内容,无非就是希望大家,拨开迷雾,切不可被企业那些其实也不老知道他们在写什么的文案给糊弄了。产品好坏,性能强弱,是驴是马,溜溜便是。今天,就让我们看看影响CMOS性能的关键都有哪些。

    上图又出现了,Asuka知道大家都有看前面几集,但是有张图还是可以更加形象一点,背景知识还是简单重提一下,CMOS作为逻辑电路的基础,是通过向GATE输入电压控制讯号以开启红色的channel,实现晶体管的开关的。为啥能开启呢,这个地方就会涉及更基础一点的半导体基础知识,大家知道半导体并非导体,在导体中,承载电流的微观粒子可以是金属中可以自由移动的电子,或者溶液中可以自由移动的离子,归根结底就是因为这些粒子可以自由移动,所以才会在施加了一定的电压以后形成稳定的电流。但是半导体中的粒子就不那么自由了,我们不去讨论这些“粒子”是什么,只会徒增烦恼,下文就统称为电流载子,或者载子,显然这些载子的行动力是有限的。作为性能代表的关键参数,大家都知道,无论GPU还是CPU还是blabla,都是频率。简单说来,频率反映了一秒之内的运算次数,我们不妨换一个角度来讨论性能,那就选运算一次所需要的时间好了,这个值恰好就是频率的倒数,1GHz对应1纳秒(ns for nanosecond),频率越高,对应的那个周期就越小。
    对于一个晶体管来说,这个时间基本可以理解为当我从关闭到开启晶体管后,电流需要多少时间通过DRAIN经过channel到SOURCE,实际上这就是在考验半导体中载子的活动力(mobility)。活动力和什么东西有关呢!第一个最直观的,两端电压,电压越大,活动力越强,通过速度越快,大家都可以理解。第二个,温度,这个大家也都知道,我就不再赘述,尤其,在77K(热力学温标)这个地方,载子的活动力甚至2~3倍于室温(热力学温标300K左右),而且还有一些其他对于性能有帮助的效应也会伴随着低温到来。(安静)“所以呢?”有读者大吼。好吧,77K就是液氮下的温度,现在大家更理解液氮了吧。第三,应力,这个大家就不太熟悉了,只能说,研究发现,当半导体被拉紧的时候载子活动力上升,嗯,就是这样,呵呵。然后呢,不从载子活动力的角度来看,我们发现,第一,GATE电压也是可以有效提高CMOS的电流穿透性能的,从图中来看,可以看成是红色的channel更粗了,可以理解为激活的载子更多了,也可以理解为channel电阻变小了。第二,当半导体不断被新的制程缩小的时候,channel变短了呀,载子要跑的距离短了,自然也就更快穿透了。当然,最bug的办法,更换更好的半导体材料,无话可说,这是先天的,Asuka也就不着墨了。
    好了,本章到这里就可以结束了





吗?
    刚才Asuka才说,拨开迷雾,看清真相,所以呢?上文是否可以总结为,随着制程的进步,并克服一些不良的反应,那么晶体管的穿透时间就会越来越短,运算频率就会越来越快,以前3GHz,现在4GHz,以后10GHz?不对吧!显然不对吧,这个争议似乎早在几年前就有了不可能这个结论了吧!然后呢,AMD和Intel相继走上了多核心的道路,而把频率之争抛到了脑后。
    所以,上文所说,全是对的,作为分析全部没错,很多效应也都在被厂商和大家利用,那么到底为什么今天我的CPU还没到10GHz?其实问题就出现在这里,刚才所说的只是晶体管性能而已,但绝不等于VLSI (超大规模集成电路)性能,也就不代表一个芯片整体的性能。为什么?到底短板在哪里呢?
我们回到当年,多核心战略上马的时候,老玩家都知道,基本就是K8与奔腾,以及酷睿还在酝酿中的时代,差不多是在0.13微米,也就是130nm的时代,发生在那个时间点绝对不是巧合,因为在那个时代,连线延迟超越了晶体管延迟,怎么解释呢?晶体管延迟,基本可以理解为上文中所叙述的晶体管穿透时间,并且,随着制程进步,晶体管性能的确是日新月异。但是,诚如我之前对于Ivy Bridge的发热表现的猜测一般,晶体管间的连线,不仅随着制程进步越来越细,也随着晶体管的增多而越来越长,细长的导线导致日趋增大的电阻,如果有电路背景的朋友就会想到,这会导致更大的RC延迟(RC delay)等等效应,以至于,在差不多90nm制程以后,芯片设计开始从晶体管主导转向绕线主导,也就解释了,为什么”Tick-Tock”中,性能提升越来越偏向于架构更新的Tock,而非制程更新的Tick,大家不妨回想下这几年,也想想最近的Ivy Bridge,也想想现在的8GHz俱乐部,是多少代同堂的画面。不妨让我们看看,130nm那段时间,半导体工艺有了什么变化。铜,开始取代原有的铝,成为了导线的主要材料,理由很简单,更好的电气性能。也让我们想想技嘉的板卡广告,你就会发现,一切都是那么不可思议地联系在了一起。现在,和IC design一起,多多少少的学校其实早就已经开始了一个新的研究方向,正如集成电路设计要自动化一样,很多现在的同学,将来的工程师正在努力研究,如何最合理的,嗯……,接导线,好吧,就是这样。
    到这里,这一章真的可以结束了,朋友们,下期再见吧!CMOS性能与制程,完,待续。

Asuka小讲堂开讲啦!之一:摩尔定律 http://bbs.pceva.com.cn/thread-40293-1-1.html
Asuka小讲座之二:CMOS性能与制程上 http://bbs.pceva.com.cn/thread-40527-1-1.html
Asuka小讲座之三:CMOS性能与制程中 http://bbs.pceva.com.cn/thread-40803-1-1.html
Asuka小讲座之四:CMOS性能与制程下 http://bbs.pceva.com.cn/thread-41263-1-1.html


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点评

如果说布线问题拖了后腿,那除了显卡向多核心发展以外,其他板载的芯片如何克服延迟问题的?重新设计电路布局还是说这些芯片的制造工艺落后于CP  发表于 2012-6-10 07:45

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2#
spartan 发表于 2012-3-31 00:04 | 只看该作者
结束了……?

点评

这一章结束了。  发表于 2012-3-31 00:16
3#
royalk 发表于 2012-3-31 00:26 | 只看该作者
之前有这么一种说法。。推土机的IC design基本上是自动化设计搞出来的,所以有许多冗余电路,搞得AMD自己都不知道推土机到底有多少晶体管
不过现在的CPU动辄几十亿晶体管不自动设计也是不可能的吧
intel是如何减少冗余电路的呢?后期人工修正?
。。。
这个问题扯远了,再提个现实点的,我们知道SNB的coldbug很严重,而IVB能超上7G的法宝就是解决了coldbug,那么coldbug的成因到底是什么,IVB是如何解决的?
4#
大D来了 发表于 2012-3-31 01:03 | 只看该作者
coldbug个人猜测,应该是与制造工艺所用的材料和手法有关,IVB的工艺也许是恰好在温度上不敏感,不容易出现coldbug而并不是解决了coldbug。笼统地说,就是工艺,理解为制造方案,包括设计,选材,blabla


业余观点以上
5#
大D来了 发表于 2012-3-31 01:04 | 只看该作者
royalk 发表于 2012-3-31 00:26
之前有这么一种说法。。推土机的IC design基本上是自动化设计搞出来的,所以有许多冗余电路,搞得AMD自己都 ...

RE R大 楼上- -,忘记引用。
还以为编辑了可以继续引用= =,这个论坛风格不熟...
6#
Asuka  楼主| 发表于 2012-3-31 03:12 | 只看该作者
本帖最后由 Asuka 于 2012-3-31 03:19 编辑
royalk 发表于 2012-3-31 00:26
之前有这么一种说法。。推土机的IC design基本上是自动化设计搞出来的,所以有许多冗余电路,搞得AMD自己都 ...


关于这个问题,稍微有点涉及到我打算在下一篇中提出的内容,因为这章节里面提出的可以理解为是针对一个理论模型的讨论
但真的要回答这个实际的问题     我想我也得先把一个实际模型摸透    因为芯片中的哪怕只是一个简单的晶体管   就和我们脑子里的晶体管长得很不一样

现在我先就我所知道的部分进行猜测


首先是IC design的部分,我是这样觉得,在芯片中占晶体管绝大比例的是L2, L3缓存,而其基础就是SRAM,其实结构是很周期性的,而且其实从来就没有什么架构上的变动,然后,若干颗核心,其实也基本又是一个周期性结构,然后就是包括始终发生器,其他一些以往北桥的功能等,在我看来,通过对以前的CPU的继承,可能已经使得所谓新的IC架构变成一个可人工完成的任务了。然后就是,IC design完全基于自动化设计,我觉得是不现实的,但把绕线的工作交给自动化设计,完全是可行的,但这个自动化必然有它的策略,我的很多同学就是在对这种策略进行研究,去完善绕线的对称性以及绕线距离的优化设计。这个部分,我觉得,AMD的绕线策略恐怕比Intel应该是有相当的距离,然后就是一如既往,从前代继承下来的东西,也根本无法和Intel比,仔细想想Intel那么多架构过来了,AMD其实从K8到现在也没变什么,GPU也类似,架构不变或微调,基本依赖制程来实现暴力叠加。

SNB的coldbug  这个我还需要多啃一下,暂时还处于搞不清楚状况的状态。我先去看看现象再说。
是指SnB在低温下会failure吗?还是什么情况?一直搞AMD,Intel都被我忽略了
7#
ELT 发表于 2012-3-31 08:25 | 只看该作者
IBM的新材料啊,还健在吗
8#
wsy2220 发表于 2012-3-31 08:25 | 只看该作者
好文章!
个人理解coldbug是低温下cpu温度检测出问题,出于保护让cpu无法工作
9#
royalk 发表于 2012-3-31 09:35 | 只看该作者
Asuka 发表于 2012-3-31 03:12
关于这个问题,稍微有点涉及到我打算在下一篇中提出的内容,因为这章节里面提出的可以理解为是针对一个理 ...

也是,AMD从K8过来基本上没有大的变化,不过推土机核心部分应该还是重新设计过的
coldbug就是运行过程中如果温度低于某个数就会死机,还有个cold boot是根本开不了机(貌似表现为一开机就断电,我也不大清楚)。两个温度未必相同
AMD不知道是SOI设计特性的原因还是什么,很少有coldbug
应该是跟低温下电子运动特性变化和制造工艺有关系的,不是CPU温度保护那么简单的事情
10#
zhang13875 发表于 2012-3-31 11:30 | 只看该作者
我想问问,买了好几个amd640,为什么1.125V的那个发热很恐怖是正常的吗?其他1.275 1.35的发热都很低。都用的同样的散热器。那个低压的风扇转速要高一倍,温度还没另外的低。
11#
Asuka  楼主| 发表于 2012-3-31 11:42 | 只看该作者
royalk 发表于 2012-3-31 09:35
也是,AMD从K8过来基本上没有大的变化,不过推土机核心部分应该还是重新设计过的
coldbug就是运行过程中 ...

我倒是不觉得是制程部分的问题导致cold bug,我去查了下Intel的32nm工艺进步,发现相比45nm工艺变更只有一点点,我倒是觉得,这个问题要么是电路设计的问题,但我更愿意相信,这是人为设置的。想想看SnB的架构当时提出来的时候,其实就非常不鼓励超频。我觉得Intel是想一点点转移大众对频率的过多的注意力,因为这个部分其实很难有所突破。
12#
Asuka  楼主| 发表于 2012-3-31 15:54 | 只看该作者
zhang13875 发表于 2012-3-31 11:30
我想问问,买了好几个amd640,为什么1.125V的那个发热很恐怖是正常的吗?其他1.275 1.35的发热都很低。都用 ...

很難橫向比較吧!散熱條件什麽的影響因素太多,無法做出判斷。
13#
没人要你是 发表于 2012-4-1 00:07 | 只看该作者
先支持下在看。
14#
mustardgs 发表于 2012-4-2 21:59 | 只看该作者
微处理器的性能足够了 软件上再好好优化感觉是目前最主要的任务
但是副院长说接下来硬件的发展是逻辑优先技巧其次 言下之意就是优先实现功能 提高效率其次
我倒觉得两者应该是同步的 之前看到一篇文章说从处理器诞生到如今 运算速度的提高只有非常小的一部分靠的是硬件的进步 超过99%是算法的功劳
15#
张建荣 发表于 2012-4-3 22:01 | 只看该作者


。。。。。 认认真真的,四篇全看完。


                 谢过楼主 。
16#
Slaughter 发表于 2012-4-3 22:27 | 只看该作者
学到很多知识。感谢A大分享。
听说intel内部的开发进度都是要看准未来5年的趋势的,不知道A大能否透露一些出来?
17#
Asuka  楼主| 发表于 2012-4-4 10:06 | 只看该作者

RE: Asuka小讲座之四:CMOS性能与制程下

Slaughter 发表于 2012-4-3 22:27
学到很多知识。感谢A大分享。
听说intel内部的开发进度都是要看准未来5年的趋势的,不知道A大能否透露一些 ...

之后会多少提到的  而且所谓趋势的东西   当我们对于这个行业有足够了解以后  自己就能把握个大概。
18#
windyes 发表于 2012-4-5 14:40 | 只看该作者
好文                              .
19#
oo304oo 发表于 2012-4-7 13:26 | 只看该作者
岔个题,玩PC&数码的到底有多少是宅啊囧……有统计过么(觉得太水的话版主就切了吧……
20#
leedemon 发表于 2012-4-12 20:07 | 只看该作者
最近无法再提升速度的主要原因还是工艺的问题,说到工艺还得说这个上面开关的那个阀门的宽度。现在工艺都到nm级别了,比如最新的ivy都到了22nm,进一步会到14nm,然后原子的宽度是10mn,这个阀门就只能靠2层原子来拦住,缝隙太大了,电子根本不需要等你开启就会漏过去,所以现在进一步提高工艺很难,也许是需要用新的介质来做才能有很大的提升了...
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