[Asuka讲堂之补充]CPU是如何制造的

除了用掩膜做离子注入以外，CMOS工艺中更常见的是采用自对准离子注入。

单晶硅主要是靠提拉法形成，直径越大的单晶硅，越难以保证点缺陷，位错，层错等的控制，难度越大。
离子注入之前一般会先通过CVD工艺形成一层外延层，另外离子注入一般也不是首个步骤，因为外延生长时会引入掺杂剂进行掺杂。