国产7nm刻蚀机和ASML的EUV光刻机有什么不同？

红色狂想 · 发表于 2018-5-1 00:23

下午老爷子看电视换台时无意间看到CCAV-2《大国重器》在喷中微半导体7nm刻蚀机，说是几个华裔回国创业者研发的，这个和ASML的EUV光刻机是一回事儿吗？

dy4932 · 发表于 2018-5-1 00:25

剪纸中的描花和裁剪之间的关系吧

Atom · 发表于 2018-5-1 19:59

EUV光刻机的波长可没有7nm
咋喷的？

dongyi945 · 发表于 2018-5-1 20:02

能实用么。光实验室的还要等很久的

xdd6622 · 发表于 2018-5-1 20:22

一天就可以起飞，这个我信！

xdd6622 · 发表于 2018-5-1 20:28

事实证明，离开欧美的开发环境，中国人啥也干不了，在中国开发的，基本是把国外技术带回来二次开发或仿造，很难有独创领域。

NuclearBomb · 发表于 2018-5-1 23:09

自己都不行还喷别人

payun · 发表于 2018-5-3 11:37

光刻和刻蚀是两回事，两个工艺过程；简单理解光刻就是照相，刻蚀是行成物理结构。

haierccc · 发表于 2018-5-23 06:56

2个工艺，有先后顺序，先用光刻机把底片印到硅片上，再用刻蚀机按照底片刻蚀出电路

redsky0802 · 发表于 2018-5-23 07:16

本帖最后由 redsky0802 于 2018-5-23 07:20 编辑

xdd6622 发表于 2018-5-1 20:28
事实证明，离开欧美的开发环境，中国人啥也干不了，在中国开发的，基本是把国外技术带回来二次开发或仿造， ...

那怎样才能叫做独创呢？你不能说所有后来的飞机都是抄莱特兄弟的，所以都没有独创领域吧？

string · 发表于 2018-5-23 12:49

概念炒多了后真有实力也没人信了，这就是现代版狼来了

Mufasa · 发表于 2018-5-23 16:20

先光刻，然后再蚀刻。

前者相当于曝光，后者相当于冲洗。

蚀刻机主要是化工原理，精度要求没有光刻机那么高。
实际上中国的蚀刻机在国际市场也有优势。

NOIP117 · 发表于 2018-5-23 21:21

你要先光刻然后才能蚀刻，光刻机难度非常高，是整个工业体系的体现。蚀刻机有国产的了当然是好事情了，虽然差距还是在那里。

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:25

dy4932 发表于 2018-5-1 00:25
剪纸中的描花和裁剪之间的关系吧

对头。这么说光刻就相当于在基材上拍照绘制草图，蚀刻就是按照草图雕琢出结构形状，就像3D打印，只不过一个是堆积材料，一个是剥离材料。

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:27

Atom 发表于 2018-5-1 19:59
EUV光刻机的波长可没有7nm
咋喷的？

喷的是刻蚀机，不是光刻机，两种不同的工序设备。

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:43

dongyi945 发表于 2018-5-1 20:02
能实用么。光实验室的还要等很久的

看隔壁有坛友说，国内负责此项目的长春光机所给的时间是2030年，当然需要的话也许可以提前，按某八股新闻说，长光所负责EUV光刻机某重要节点技术已经通过验收。不过人家目前的重心貌似在卫星上，米级商用遥感卫星，2020年要发射60颗，组成30分钟任意地点，2030年之前137颗，每10分钟重新返回任何地点，这是他们发射卫星的视频：https://www.bilibili.com/video/av4459191/
反正领导不说话不给钱不给人不给设备不压任务的话，估计没点儿。。。

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:45

xdd6622 发表于 2018-5-1 20:22
一天就可以起飞，这个我信！

南瓜比房子大，一棵玉米要用马车拉

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:47

xdd6622 发表于 2018-5-1 20:28
事实证明，离开欧美的开发环境，中国人啥也干不了，在中国开发的，基本是把国外技术带回来二次开发或仿造， ...

未来50年一定会改变的

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:49

NuclearBomb 发表于 2018-5-1 23:09
自己都不行还喷别人

唱哀别人，自己自然就行啦。

红色狂想 · 发表于 2018-5-23 23:52

payun 发表于 2018-5-3 11:37
光刻和刻蚀是两回事，两个工艺过程；简单理解光刻就是照相，刻蚀是行成物理结构。 ...

嗯，现在明白了，原来PN结和栅极二氧化硅耗尽层是这样加工出来的。。。