国产7nm刻蚀机和ASML的EUV光刻机有什么不同?
下午老爷子看电视换台时无意间看到CCAV-2《大国重器》在喷中微半导体7nm刻蚀机,说是几个华裔回国创业者研发的,这个和ASML的EUV光刻机是一回事儿吗?{:1_443:} 剪纸中的描花和裁剪之间的关系吧 EUV光刻机的波长可没有7nm咋喷的? 能实用么。光实验室的还要等很久的 一天就可以起飞,这个我信! 事实证明,离开欧美的开发环境,中国人啥也干不了,在中国开发的,基本是把国外技术带回来二次开发或仿造,很难有独创领域。 自己都不行还喷别人
光刻和刻蚀是两回事,两个工艺过程;简单理解光刻就是照相,刻蚀是行成物理结构。 2个工艺,有先后顺序,先用光刻机把底片印到硅片上,再用刻蚀机按照底片刻蚀出电路 本帖最后由 redsky0802 于 2018-5-23 07:20 编辑
xdd6622 发表于 2018-5-1 20:28
事实证明,离开欧美的开发环境,中国人啥也干不了,在中国开发的,基本是把国外技术带回来二次开发或仿造, ...
那怎样才能叫做独创呢?你不能说所有后来的飞机都是抄莱特兄弟的,所以都没有独创领域吧?
概念炒多了后真有实力也没人信了,这就是现代版狼来了 先光刻,然后再蚀刻。
前者相当于曝光,后者相当于冲洗。
蚀刻机主要是化工原理,精度要求没有光刻机那么高。
实际上中国的蚀刻机在国际市场也有优势。 你要先光刻然后才能蚀刻,光刻机难度非常高,是整个工业体系的体现。蚀刻机有国产的了当然是好事情了,虽然差距还是在那里。 dy4932 发表于 2018-5-1 00:25
剪纸中的描花和裁剪之间的关系吧
对头。这么说光刻就相当于在基材上拍照绘制草图,蚀刻就是按照草图雕琢出结构形状,就像3D打印,只不过一个是堆积材料,一个是剥离材料。{:1_433:} Atom 发表于 2018-5-1 19:59
EUV光刻机的波长可没有7nm
咋喷的?
喷的是刻蚀机,不是光刻机,两种不同的工序设备。{:1_443:} dongyi945 发表于 2018-5-1 20:02
能实用么。光实验室的还要等很久的
看隔壁有坛友说,国内负责此项目的长春光机所给的时间是2030年,当然需要的话也许可以提前,按某八股新闻说,长光所负责EUV光刻机某重要节点技术已经通过验收。不过人家目前的重心貌似在卫星上,米级商用遥感卫星,2020年要发射60颗,组成30分钟任意地点,2030年之前137颗,每10分钟重新返回任何地点,这是他们发射卫星的视频:https://www.bilibili.com/video/av4459191/
反正领导不说话不给钱不给人不给设备不压任务的话,估计没点儿。。。{:1_450:} xdd6622 发表于 2018-5-1 20:22
一天就可以起飞,这个我信!
南瓜比房子大,一棵玉米要用马车拉{:1_443:} xdd6622 发表于 2018-5-1 20:28
事实证明,离开欧美的开发环境,中国人啥也干不了,在中国开发的,基本是把国外技术带回来二次开发或仿造, ...
未来50年一定会改变的{:1_443:} NuclearBomb 发表于 2018-5-1 23:09
自己都不行还喷别人
唱哀别人,自己自然就行啦。{:1_443:} payun 发表于 2018-5-3 11:37
光刻和刻蚀是两回事,两个工艺过程;简单理解光刻就是照相,刻蚀是行成物理结构。 ...
嗯,现在明白了,原来PN结和栅极二氧化硅耗尽层是这样加工出来的。。。{:1_450:}
页:
[1]
2